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![EPISIL TECHNOLOGIES INC. EPISIL TECHNOLOGIES INC.-ロゴ](uploads/uploads_brands/website_1/brands_36_4_118.png)
EPISIL TECHNOLOGIES INC.は1985年に設立し、新竹サイエンスパークに位置している。現在、同社の従業員数は約900名であり、資本金は約20億元(台湾ドル)である。同社は、「パワーデバイス」と「アナログデバイス」のファウンドリであり、台湾において、最も代表的な専門メーカーである。現在、同社は、一棟の5インチウェーハ工場と二棟の6インチウェーハ工場を所有している。
![EPISIL TECHNOLOGIES INC.テクニカルイラストレーション-1, 共4張](uploads/uploads_brands/website_1/brands_36_3_114.jpg)
![EPISIL TECHNOLOGIES INC.テクニカルイラストレーション-2, 共4張](uploads/uploads_brands/website_1/brands_36_3_115.jpg)
![EPISIL TECHNOLOGIES INC.テクニカルイラストレーション-3, 共4張](uploads/uploads_brands/website_1/brands_36_3_116.jpg)
![EPISIL TECHNOLOGIES INC.テクニカルイラストレーション-4, 共4張](uploads/uploads_brands/website_1/brands_36_3_117.jpg)
基本データ
会社名 EPISIL TECHNOLOGIES INC.
会社所在地
300
Hsinchu CityEast DistrictNo. 18, Chuangxin 1st Rd., Baoshan Township,Hsinchu County
産業別
半導体関連/IC製造
設立年月日
1985
従業員数
900
資本金
NT$ 2,000,000,000
概要
サービスモデル ウェーハファウンドリサービス
主力製品
ICファウンドリ(SIC炭化ケイ素、GaN窒化ガリウム、TVSダイオード、ATV、FRDファストリカバリダイオード/FRMOS)
開発技術
炭化ケイ素 窒化ガリウム TVSダイオード FRD
国際規格
ISO 9001: 2015 IATF 16949: 2016